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據介紹，ASML未來4年將在韓國投資2,400億韓元（2.1億美元），於京畿道華城市打造一座EUV光刻設備再制造廠以及一傢培訓中心。所謂再制造，是指通過必要的拆卸、檢修和零部件更換等，將廢舊產品恢復如新的過程。
想要打造先進制程的半導體生產線，一定要設法取得關鍵半導體設備。應用材料、ASML、泛林半導體、東京電子是全球前四大半導體設備廠商，總體的市占率高達60%左右。問題是，這些半導體設備廠每年隻能生產一定數量的機臺，交貨時間也比較長。
特別是對於7nm以下先進制程所必須的EUV光刻機來說，目前ASML是全球唯一一傢能夠生產EUV光刻機的半導體設備供應商。但是目前ASML的EUV光刻機產能十分有限，一年隻能生產30臺左右EUV光刻機。據韓國媒體報道稱，目前臺積電已取得瞭50臺EUV設備，而三星僅有10臺。
此次ASML計劃在韓國新建的EUV再制廠，主要用途就是為韓國當地運行的EUV光刻機維護、升級提供助力。
據瞭解，韓國MOTIE及京畿道政府將針對ASML的授權、擴張當地業務事宜提供協助。而上述設施預計2025年底前落成，未來將在韓國聘用超過300名專業人才。
另外值得一提的是，報道還指出，目前美國半導體設備大廠泛林半導體（Lam Research Corp.）將擴大對韓國的投資南。報道引述業界消息指出，泛林半導體已將韓國的生產目標提高一倍，正在尋找合適的地點建立新廠，以便擴充產能。
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