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為協助臺積電、穩懋、華邦、日月光等提前佈局12寸晶圓制造利基設備，現正規劃推動高雄半導體材料專區，建立南部半導體材料S廊帶，旨在掌握關鍵化學品和材料優化參數，建立戰略供應鏈。
有觀點將2030年定義為超摩爾定律時代，IC產品邁向多元化和極致效能，並進入埃米尺度。
從頭部核心設備光刻機的角度，ASML目前公開的路線圖最遠規劃到型號EXE:5200，數值孔徑0.55NA，矽片、曝光潔凈室逼近物理極限。
按照ASML的說法，現今5nm/7nm光刻機已然需要10萬+零件、40個集裝箱，而1nm時代光刻機還要比3nm還大一倍左右。
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