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下一步，公司將積極組織相關資源，盡快完成設備的安裝調試工作。
從晶瑞公司的信息來看，公司采購的光刻機設備為ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻機，可用於研發最高分辨率達28nm的高端光刻膠。
此外，28nm級別的光刻機在ASML公司中並不算多先進的型號瞭，官網上列出的沉浸式光刻機最舊的型號也是XT1965CI瞭，可用於20nm以下的工藝。
不過晶瑞公司購買的這臺光刻機花瞭1102.5萬美元，約合人民幣7129萬元，價值不菲。
晶瑞公司表示，公司量產光刻膠近30年，組建瞭國內領先的光刻膠研發團隊，具有豐富的光刻膠研發和生產經驗，先後承擔瞭國傢“85”攻關、“863”重大專項、科技部創新基金等科技項目、承擔瞭國傢02重大專項“i線光刻膠產品開發及產業化”項目，並順利通過國傢02重大專項驗收。
公司完成中試的 KrF光刻膠已進入客戶測試階段，達到0.15μm的分辨率。
本次購買的 ASML光刻機設備系公司集成電路制造用高端光刻膠研發項目的必要實驗設備，旨在研發出更高端的 ArF 光刻膠，若研發工作進展順利，將有助於公司將光刻膠產品序列實現到 ArF 光刻膠的跨越，並最終實現應用於12英寸芯片制造的戰略佈局。
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